詳細(xì)摘要： QL 氣路測量控制管線系統(tǒng)是七星流量計開發(fā)的氣路輸送系統(tǒng)的解決方案，該產(chǎn)品通過對氣路原理圖的設(shè)計、加工和測試，以隔膜閥、調(diào)壓閥、壓力傳感器、過濾器、MFC等零部...
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華兆科技（廣州）有限公司
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詳細(xì)摘要： QL 氣路測量控制管線系統(tǒng)是七星流量計開發(fā)的氣路輸送系統(tǒng)的解決方案，該產(chǎn)品通過對氣路原理圖的設(shè)計、加工和測試，以隔膜閥、調(diào)壓閥、壓力傳感器、過濾器、MFC等零部...
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詳細(xì)摘要： DS300 壓力式質(zhì)量流量控制器是針對半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā)的一款適用于半導(dǎo)體裝備的氣體質(zhì)量流量控制器。DS300采用基于壓力原理的流量傳感器技術(shù)和高精度壓電閥控制技術(shù)...
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詳細(xì)摘要： CS330數(shù)字式質(zhì)量流量計是七星華創(chuàng)流量計研發(fā)的數(shù)字型產(chǎn)品，流量可達(dá)200SLM（氮氣），并可實現(xiàn)數(shù)字/模擬控制模式；產(chǎn)品可用于測量各種氣體的流量，包括惰性氣體...
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詳細(xì)摘要： WS-ALN100150倒片機中包含1臺6軸機械手組件，設(shè)備前端設(shè)有6個Loadport工位，每3個對應(yīng)1個腔室。設(shè)有2個Buffer工位，每個Buffer上可...
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詳細(xì)摘要： TAU Series離子微粒吸附設(shè)備在面板生產(chǎn)中主要應(yīng)用于曝光機設(shè)備，用于去除空氣中可能會降低曝光機鏡組折射率的有害物質(zhì)。同時具有精確控制溫度和控制濕度的功能。
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詳細(xì)摘要： Oven設(shè)備是目前TFT產(chǎn)線耗電量較大的設(shè)備，Oven設(shè)備熱排管道排出的是230℃的高溫有機廢氣（光刻膠升華物），大量的熱能被浪費掉。在排氣管路上安裝熱能回收的...
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詳細(xì)摘要： UVC Series紫外線固化爐外形緊湊，能對應(yīng)G4.5～G10.5范圍內(nèi)的Panel規(guī)格，設(shè)備提供的UV照射光強充足均勻，能準(zhǔn)確量化監(jiān)控，并實現(xiàn)光路照度調(diào)節(jié)閉...
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詳細(xì)摘要： CVI Series裝載卸載設(shè)備是連接工藝設(shè)備（EQ）和智能化物流倉儲系統(tǒng)（STK），使設(shè)備工藝制程順利完成的系統(tǒng)。Indexer由Port和Fence兩部分組...
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詳細(xì)摘要： Hesper TO230R 單片減壓原位濕法氧化系統(tǒng)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研等領(lǐng)域，單腔或多腔多種設(shè)計，可滿足不同客戶需求，低擁有成本和低運營...
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詳細(xì)摘要： THEORIS A302 12英寸立式低溫退火爐在中低溫條件下，通入N?、H?或D?等氣體，以消除硅片界面處金屬及非金屬晶格缺陷和晶格損傷，優(yōu)化硅片界面質(zhì)量，提...
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詳細(xì)摘要： Booster SWA單片退火系統(tǒng)主要用于12英寸后段金屬互聯(lián)退火工藝。該機臺為多腔集群設(shè)備，能夠進(jìn)行全自動并行工藝處理。系統(tǒng)主要由傳輸模塊和3個工藝模塊組成，...
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詳細(xì)摘要： AGF Series電阻式SiC長晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長，多加熱器設(shè)計允許靈活的工藝和熱場設(shè)置，下裝載結(jié)構(gòu)可實現(xiàn)便捷的開裝爐及維護...
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詳細(xì)摘要： APS Series感應(yīng)式SiC長晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長，創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可提供高純材料生長能力，擁有高精度的控溫、控壓能力，工藝...
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詳細(xì)摘要： NVT-HG單晶生長爐主于光伏產(chǎn)業(yè)8-12英寸單晶硅制備工藝，該機臺具有大投料量，高拉速，低能耗，自動化、智能化的優(yōu)點。能夠進(jìn)行全自動并進(jìn)行工藝處理。系統(tǒng)主要由...
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詳細(xì)摘要： SC3080 12英寸單片清洗設(shè)備可同時配備多種藥液，主要用于12英寸后段和前段清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給模塊、電源柜等組成，標(biāo)配8個腔...
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詳細(xì)摘要： Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜...
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詳細(xì)摘要： GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應(yīng)用，可用于典型0.35...
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詳細(xì)摘要： EPEE i200等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺式多反應(yīng)腔架構(gòu)，兼容Si、Si...
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詳細(xì)摘要： HORIC L200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜，設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高，可滿足半...
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詳細(xì)摘要： Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運行。該設(shè)備主要由傳輸系統(tǒng)模塊、工藝腔室模塊、壓力控制模...
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